超硬AR+AF/AS膜
莫氏硬度7
鋼絲絨耐磨1萬次>100°
射頻離子源清洗及后氧化輔助濺射成膜，適用于車載蓋板玻璃和3C產品前蓋玻璃沉積AR膜，其中AR膜可為普通SiO2+Nb2O5膜系，也可為硬質SiO2+Si3N4膜系。可選在線AF/AS系統，沉積AR+AF/AS膜，AR+DLC+AF/AS膜，兼容2D/3D基材。同時也適用于3C產品后蓋顏色膜（含漸變色膜）、NCVM膜的加工。
旋轉陰極裝置與行內普通平面靶裝置相比靶材使用周期與利用效率顯著提高；可客制化的基板工件架結構定制，給客戶產品擺放達到最大的利用空間；匯成專利離子源具有工作范圍廣能量均衡，高離化率，超穩定工作效率，低耗能等特點。
優勢：
?出色的均勻性
?可實現不同的材料或提高產量
?集成式等離子體源，可提高涂層質量并進行基板預清潔
?快速更換不同尺寸基板的工具
?高目標利用率，不影響涂層規格
?簡單的目標交換和易于訪問的系統維護
真空機械手全自動同時上下料節省時間
ICP/CCP等離子體+磁控濺射光學工藝
爐內均勻性好
莫氏硬度7@750g
鋼絲絨耐磨10000次>100°
兼容2D/2.5D/3D曲面基材
| 規格 | |
| 型號 | HCSO-2550V |
| 尺寸 | Ф2700mm*H2350mm |
| 結構 | 三腔室結構（進料室+工藝室+出料室） |
| 性能 | |
| 轉速 | 10~100RPM（可變） |
| 進出料室抽速 | 大氣壓至10Pa≤5min |
| 工藝室抽速 | 3.0×10-3Pa≤15min |
| 極限真空度 | 8.0×10-5Pa (成膜室) |
| 濺射靶材 | Nb,Si,Cr,Al,Ti,In,Nb2O5,ITO,C ... |
| 主要配置 | |
| 夾具系統 | 中心旋轉公轉夾具桶 / 掛板機械結構傳動 |
| 掛板 |
Φ2550x H1200 ~ H1800mm 掛板尺寸可客制化調整 |
| 排氣系統 | 低真空泵組 + 高真空泵組 + Polycold |
| 真空控制系統 | 真空控制器、潘寧及皮拉尼真空計 |
| 鍍膜系統 | DC或MF磁控濺射源+ 等離子體源 + 在線AF/AS蒸發源 |
| 充氣系統 | MFC或APC自動壓強控制儀 |
| 控制系統 | PC+PLC |
| 應用 | |
| 光學薄膜應用 | UV截止濾光片、AR、硬質AR膜、硬質膜、HR膜、AS/AF等，兼容2D/3D基材 |
| 適用波長 | 300nm~780nm |
| 注：可客制化（數據僅供參考） | |
| 規格 | |
| 型號 | HCSO-2550T |
| 鍍膜區域 | Ф2700mm*H1950mm |
| 結構 | 雙腔室結構（進出料室+工藝室） |
| 性能 | |
| 轉速 | 10~100RPM（可變） |
| 進出料室抽速 | 大氣壓至10Pa≤5min |
| 工藝室抽速 | 3.0×10-3Pa≤15min |
| 極限真空度 | 8.0×10-5Pa (成膜室) |
| 濺射靶材 | Nb,Si,Cr,Al,Ti,In,Nb2O5,ITO,C ... |
| 主要配置 | |
| 夾具系統 | 中心旋轉公轉夾具桶 / 掛板機械結構傳動 |
| 掛板 |
Φ2550x H1200 ~ H1800mm 掛板尺寸可客制化調整 |
| 排氣系統 | 低真空泵組 + 高真空泵組 + Polycold |
| 真空控制系統 | 真空控制器、潘寧及皮拉尼真空計 |
| 鍍膜系統 | DC或MF磁控濺射源+ 等離子體源 + 在線AF/AS蒸發源 |
| 充氣系統 | MFC或APC自動壓強控制儀 |
| 控制系統 | PC+PLC |
| 應用 | |
| 光學薄膜應用 | UV截止濾光片、AR、硬質AR膜、硬質膜、HR膜、AS/AF等，兼容2D/3D基材 |
| 適用波長 | 300nm~780nm |
| 注：可客制化（數據僅供參考） | |
HCVAC-PVD
