High precision multicavity magnetron sputtering optical coating machine 高精密多腔磁控濺射光學鍍膜機
具備RF-ICP/CCP輔助磁控濺射后氧化模式，具有高沉積速率且光學性能匹配的特點。適用于車載蓋板玻璃和3C產品前蓋玻璃沉積AR膜，其中AR膜可為普通SiO2+Nb2O5膜系，也可為硬質SiO2+Si3N4膜系。同時也適用于3C產品后蓋顏色膜（含漸變色膜）、NCVM膜的加工。
旋轉陰極裝置與行內普通平面靶裝置相比靶材使用周期與利用效率顯著提高；可客制化的基板工件架結構定制，給客戶產品擺放達到最大的利用空間；全自動一體的提拉升降的轉架裝置，大幅度減少機器開關門時間，大大提高了生產效率與工藝穩定性；匯成專利離子源具有工作范圍廣能量均衡，高離化率，超穩定工作效率，低耗能等特點。
可利用時間精準控制薄膜厚度，達到設計工藝要求，節省晶控，光控環節，為客戶省去大量的膜厚儀耗材；可生產高折射率氮化薄膜，提高薄膜硬度性能；低溫成膜，可應對各種用途；自動調節氣體流量專利裝置，保持穩定的靶電壓，保證成膜品質；可選“校正板外部調節機構”。
優勢：
?出色的均勻性
?可實現不同的材料或提高產量
?集成式等離子體源，可提高涂層質量并進行基板預清潔
?快速更換不同尺寸基板的工具
?高目標利用率，不影響涂層規格
?簡單的目標交換和易于訪問的系統維護
