7° tilted vertical inline coating system 斜7°立式連續鍍膜生產線

該系統可用于光學薄膜疊層以及要求低顆粒缺陷的金屬濺射應用。通過可旋轉靶材技術實現高靶材利用率，完全無接觸的磁懸浮工件架傳輸系統實現最小的顆粒缺陷，采用折返室的設計理念將占地面積降到最低，將基板返回真空室。

傾斜7度角進行鍍膜與工件架傳送，因無挾持可實現基板全覆蓋鍍膜。

工件架頂部磁導向,底部摩擦穩定傳送，磁流體密封。

縮短工件架間距，增加靶材鍍膜利用效率。