HCSH系列
低摩擦性能涂層
專為摩擦性高負荷系統設計，低摩擦性能涂層的應用，為汽車零部件表面處理開啟了新視角和技術解決方案，提高了系統效率和部件使用壽命，經過強化的摩擦性能不僅能防止零件磨損，還能在運行時對相對件進行拋光和保護。
真空鍍室的真空密封和室內運動部件的設計和用材，充分考慮可承受高溫。
配置多只高效園形電弧蒸發源，或配多個矩形平面電弧蒸發源，也可配多只空心陰極槍，同時配置耐沖擊的、具有優異滅閃弧性能的偏壓電源，保證足夠等離子體密度和反應活性，提高膜層致密性和結合力。
采用獨有的磁場控制技術使電弧在靶材整個表面做快速的移動，涂層表面光滑致密，靶材表面被均勻刻蝕，優化了涂層結合力。低溫至300℃，也具有出色的涂層附著力，新技術帶來了更快的批次周轉效率，優化了涂層生產效率，高精密度，在有效鍍層范圍內涂層厚度均勻。
優勢：
?提高靶材利用率(最大可提高30%)
?強化的磁場系統和由此帶來的沉積效率的提高
?快速的靶材交換
占地面積小，易于集成到工廠
整個腔室中均勻的鍍膜沉積速率
易于操作維護
多種工藝技術靈活組合
耐用類金剛石涂層鍍膜
本地或遠程監控鍍膜過程
| 型號 | HCSH-400 |
| 有效等離子區域 | D400×H450mm |
| 最高工作溫度 | 550℃ |
| 技術特點 |
PMAⅡ AEG HIPIMS |
| 預處理 | ARC, AEG, DC, MF, HIPIMS |
| 陰極 | D120 / D160 / W125 |
| 真空條件 |
極限真空≤5×10-4Pa 工作真空≤5×10-3Pa |
| 工藝周期 |
關門到開門4~5h TiN：2~2.5um TiAlN：2~2.5um TiSiN：2~3.5um |
| 設備配置 |
磁懸浮分子泵 脈沖偏壓電源 PC智能控制系統 |
| 標準轉架 | D140×4軸 |
| 最大裝載量 | 200KG |
| 備注 |
選用濺射（UBM，RF等）有效高度會適當減小 在線服務支持系統 |
| 型號 | HCSH-650 |
| 有效等離子區域 | D650×H750mm |
| 最高工作溫度 | 550℃ |
| 技術特點 |
PMAⅡ AEG HIPIMS |
| 預處理 | ARC, AEG, DC, MF, HIPIMS |
| 陰極 | D120 / D160 / W125 |
| 真空條件 |
極限真空≤5×10-4Pa 工作真空≤5×10-3Pa |
| 工藝周期 |
關門到開門5~8h TiN：2~2.5um TiAlN：2~2.5um TiSiN：2~3.5um |
| 設備配置 |
磁懸浮分子泵 脈沖偏壓電源 PC智能控制系統 |
| 標準轉架 | D140×8軸 |
| 最大裝載量 | 500KG |
| 備注 |
選用濺射（UBM，RF等）有效高度會適當減小 在線服務支持系統 |
| 型號 | HCSH-900 |
| 有效等離子區域 | D900×H1200mm |
| 最高工作溫度 | 550℃ |
| 技術特點 |
PMAⅡ AEG HIPIMS |
| 預處理 | ARC, AEG, DC, MF, HIPIMS |
| 陰極 | D120 / D160 / W125 |
| 真空條件 |
極限真空≤5×10-4Pa 工作真空≤5×10-3Pa |
| 工藝周期 |
關門到開門7~10h TiN：2~2.5um TiAlN：2~2.5um TiSiN：2~3.5um |
| 設備配置 |
磁懸浮分子泵×2 脈沖偏壓電源 PC智能控制系統 |
| 標準轉架 | D140×12軸 |
| 最大裝載量 | 500KG |
| 備注 |
選用濺射（UBM，RF等）有效高度會適當減小 在線服務支持系統 |
HCVAC-PVD
